背景扣除该怎么做
有关物质检查有杂质在溶剂峰位置出峰,且有时候溶剂峰峰面积可能超出限度要求,扣除该位置空白时有两种方法:
①使用工作站扣,但是,如果保留时间稍有差别,(比如溶剂中溶剂峰保留时间为1.983,样品中溶剂峰保留时间为1.990)扣空白时即使两个峰面积相同,结果都可能会出现一个凹凸相连的峰,搞不好还会超出限度要求。
工作站扣空白,只对溶剂峰位置杂质峰有影响,对其他杂质无影响。
②不用工作站,根据空白溶剂和样品积出的溶剂峰峰面积大小,相互减去,就不会出现上述问题。
按照上面的结果,我们能不能每次在计算时不用工作站扣空白背景的功能,仅计算供试样溶剂峰峰面积与空白溶剂中溶剂峰峰面积差值来计算该位置杂质含量。
最后编辑于 2022-10-09 · 浏览 5753