小结：控制抗体三硫键修饰，以降低抗体片段（fragments或LMW）比例

非还原CE-SDS检项下，抗体fragments比例是我们关注的重要质量之一，目前大量文献报道，在CHO细胞收获阶段通气、降温和控pH等会降低抗体链间二硫键断裂比例，大致原理为该操作可降低CHO胞内释放的氧化还原酶活性（如硫氧还蛋白还原酶），而这类还原酶的存在被认为是造成抗体收获阶段片段比例增加的重要因素。

此外有相关报道显示，抗体三硫键修饰也是造成抗体片段比例升高的重要原因之一，抗体三硫键形成主要有抗体链间二硫键与H2S通过反应合成，由于抗体三硫键对热较为敏感，因此在抗体进行非还原CE-SDS检测时会有部分三硫键发生断裂进而形成抗体片段，当前研究显示抗体三硫键主要发生于轻重链间，而重链间发生概率较低。

目前降低抗体三硫键的方法有：1、在细胞培养阶段，补料培养基中降低Cysteine浓度，或以其他类似物替代如S-sulfocysteine，可显著降低三硫键比例，进而减少抗体片段化；2、在ProteinA亲和层析阶段增加Cysteine淋洗步骤，即可将其中三硫键转化为二硫键。

以上为个人阅读文献的心得，如有错误或不妥之处，请指正！附几篇介绍抗体三硫键修饰的相关文献给大家！期待更多交流！