本人最近在做一个制剂,系统适用性在16-20min之内有5个杂质峰,假设顺序为1.2.3.4.5这五个杂质。 当杂质2与1或者3重叠的时候,可以得到4个分离度1.4以上杂质峰,但4和5重叠的时候,也可以得到4个分离度1.4以上杂质峰,但是无论如何也弄不出1.2.3.4.5 5个峰全部到达分离度的情况。
已知我的样品中只有1.2这两个杂质,3杂质破坏的时候会出现,4、5我们样品以及破坏情况下都没有,是不是可以4、5不要管他呢?另外4,5在药典上是要求控制的。
大家说说有什么好的方法不,本人用的是梯度洗脱 ,柱温低的时候会分成一个峰,柱温高的时候1.2会合成一个峰